ДИАГНОСТИКА ПЛАЗМЫ ФАКЕЛЬНОГО БАРЬЕРНОГО РАЗРЯДА В ТОКЕ АРГОНА В КАПИЛЛЯРЕ МЕТОДОМ КРОСС-КОРРЕЛЯЦИОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ

  • В. А. Короленко Химический факультет МГУ им. М.В. Ломоносова
  • А. И. Загоскин Химический факультет МГУ им. М.В. Ломоносова
  • К. В. Козлов Химический факультет МГУ им. М.В. Ломоносова
  • Т. А. Никитина Физический факультет МГУ им. М.В. Ломоносова
  • В. Г. Самойлович Химический факультет МГУ им. М.В. Ломоносова
Ключевые слова: нет

Аннотация

Анализ пространственно-временного разрешения плазмы факельного барьерного разряда был проведен с помощью метода кросс-корреляционной спектроскопии. Разряд был образован в токе аргоне, вытекающем из кварцевого капилляра в окружающий воздух. Частота и амплитуда напряжения были равны 2.6 kHz и 4.8 kV, соответственно. Найдено, что эмиссионный спектр разряда состоит из линий аргона и полос ОН-радикала (А-Х переход) и молекулярного азота (2ая поло-жительная система). Пространственно-временные распределения интенсивности излучения для нескольких отобранных длин волн (спектральные индикаторы) были зарегистрированы с пространственным распределением в 0,2 mm, а временное распределение – в области наносекунд. Анализ экспериментальных данных показывает, что факел вне электродной системы появляется благодаря распространению периодических ионизационных волн, движущихся внутри капилляра и выходящих из него.

Литература

1. Kogelschatz U. // Plasma Chem. Plasma Process. 2003. Vol. 23, No 1, p. 1.
2. Wagner H.-E., Brandenburg R., Kozlov K.V., Sonnenfeld A., Michel P., Behnke J.F. // Vacuum. 2003. Vol. 71, p. 417.
3. Laroussi M. // Plasma Process. Polym. 2005. Vol. 2, p. 391.
4. Becker K.H., Schoenbach K.H., Eden J.G. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. Vol. 39, p. 55.
5. Kogelshatz U. // Contrib. Plasma Phys. 2007. Vol. 47, No 1-2, p. 80.
6. Lu X., Jiang Z., Xiong Q., Tang Z., Hu X.,Pan Y. // Appl. Phys. Lett. 2008. Vol. 92, paper No. 081502.
7. Laroussi M., Akan T. // Plasma Process. Polym. 2007. Vol. 4, p. 777.
8. Wagner H.-E., Kozlov K.V., Brandenburg R. Low Temperature Plasmas - Fundamentals, Technologies and Techniques / Ed. R. Hippler, H. Kersten, M. Schmidt, K.H. Schoenbach. 2nd revised and enlarged ed. Berlin, 2008, p. 271.
9. Татаренко П.А., Козлов К.В., Самойлович В.Г., Соколова М.В. // Вестн. Моск. Ун-та. Сер. 2. Химия. 2010. том 51, c. 422.
10.Ralchenko, Yu., Kramida, A.E., Reader, J. and NIST ASD Team. NIST Atomic Spectra Database (version 4.0), National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD. 2008.
11.Kozlov K.V., Wagner H.-E., Brandenburg R., Michel P. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2001. Vol. 34, p. 3164.
12.Setser D.W., Stedman D.H., and Coxon J.A. // J. Chem. Phys. 1970. Vol. 53, p.1004.
13.Kozlov K.V., Tatarenko P.A., Samoilovich V.G. // Proc. 11th Int. Symp. on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry. Oleron (France), 2008, p. 65.
Опубликован
2018-03-06
Раздел
Статьи